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首页 > 供应产品 > 氧化铝研磨剂配方还原技术研发
氧化铝研磨剂配方还原技术研发
产品: 浏览次数:659氧化铝研磨剂配方还原技术研发 
合作单位: 交通大学等**重点实验室
公司名称: 凯思普科技有限责任公司
单价: 4888.00元/升
最小起订量:
供货总量: 40000 升
发货期限: 自买家付款之日起 1 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2021-11-13 15:09
 
详细信息
合作单位 交通大学等**重点实验室
公司名称 凯思普科技有限责任公司
服务行业 化工行业
主营业务 配方分析 配方还原 成分分析 技术研发
我们的优势 一站式落地服务
售后服务周期 2年
分析周期 7天
保质期 24个月
材质 抛光粉
产地 顺德
规格 20kg/桶
适用范围 不锈钢
执行质量标准 国标
贸易属性 库存
品牌 凯思普
型号 SC69-02C
加工定制
单件净重 60kg/桶

 氧化铝研磨剂配方还原技术研发

 

氧化铝研磨剂是不同于固结磨具,涂附磨具的另一类“磨具”,磨料在分散剂中均匀、游离散布。氧化铝研磨剂可分成研磨液和抛光液。通常研磨液应用于粗磨,氧化铝研磨剂应用于精密磨削。氧化铝研磨剂一般应用于研磨液的下道工序,化工行业中也把抛光液称作研磨液或把研磨液称作抛光液的。

 

氧化铝研磨剂技术参数平稳、无毒或低毒,对环境无污染等用途。氧化铝研磨剂是一种不含随意硫、磷、氯添加助剂的水溶性抛光剂,具有较好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过本来的光泽!

“温馨提示:此页显示售价为订金价格,完整价格以工程师报价为准。欢迎随时咨询!”

24小时服务热线:021-64697899 / 189-189-72009

抛光首要使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学步骤。这是综合反应的主体。抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸步骤使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学步骤。它是限制抛光速率的另一个核心步骤。假如化工腐蚀用途大于机械抛光用途,则抛光片表面生成腐蚀坑、桔皮状波纹。假如机械磨削用途大于化工腐蚀用途,则表面生成高损坏层!

 

探擎科技有限公司专注氧化铝研磨剂的分析检测项目:

成分分析:对产品中的关键组成成分经过许多大型仪器同时使用得到有关微观谱图比对谱图数据库分析出基本成分成分含量比例。

提供研发:在分析出氧化铝研磨剂配方成份后,若企业有意向,可在一定程度上辅助企业进行研发

配方成分化验:经过分析基本成分配方组成及其比例,分析出氧化铝研磨剂。

不明成分分析:就氧化铝研磨剂中的不明成分,判断其组成成分,提供企业分析出该不明成分是怎样生成的。

 

探擎科技有限公司分析氧化铝研磨剂配方成份的实力:

(1)先进的仪器:探擎科技有限公司自主创建实验场所,拥有多台先进仪器,能多方面分析产品,得到图谱

(2)专业的分析工程师:探擎科技有限公司拥有致力的分析化验工程师和成功的行业研发研发经验知识,帮助企业消除化学配方成份难题。

(3)成功的谱图构象:探擎科技有限公司积淀了深厚的配方成份分析经验知识,拥有较大的谱图构象库。

(4)后期指导:探擎科技有限公司可以依据企业需求,专业提供后期跟踪工艺性指导。

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