| 品名 | 机械剥离氧化铝基底二硫化钨 |
|---|---|
| 牌号 | XFNANO |
| 规格 | 1 盒（目） |
| 级别 | 正常 |
| 用途范围 | 科研 |
| 含量 | 正常 |
| 用途类别 | 科研 |
| 品牌 | 先丰纳米 |
| 型号 | XFG19 |
产品名称
中文名称: 机械剥离氧化铝基底单层二硫化钨
英文名称：Mechanical exfoliation WS2 on Al2O3
性质
形态：薄膜
参数
基底：氧化铝
基底尺寸：10 mmx10 mm
单层WS2面积：>10 μm2
应用
先丰纳米新推出机械剥离制备的二硫化钨，该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料。
其他信息
详情请发邮件至：sale@xfnano.com
