真空镀膜行业中的铝靶材，你了解多少？

铝简介

铝靶材是一种银白色的金属材料

密度为2.7g/cm3

熔点为660℃

沸点为2500℃

在正常条件下轻盈、延展性好且无磁性

铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

铝靶材特征

铝靶材形状：平面靶、旋转靶、异型定制

铝靶材制作方法

以高纯度铝锭作为原材料，对原材料进行锻造、轧制、热处理等，使铝锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铝靶材的要求。对变形处理后的高纯度铝材料进行机械加工，铝靶材加工要求精度高、表面质量高，加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了。上图是我们的铝溅射靶材的显微照片，平均晶粒尺寸<300μm。

铝合金靶材的制作方法

通常采用粉末冶金方法制备铝钛、铝铬系列合金溅镀靶材，可以防止成分偏析和微颗粒现象，生产效率高，综合成本较低。其制备工艺如下：熔熔金属使其合金化，然后以气雾化法将金属熔液制成金属粉末；筛分合金粉，获得适当粒径的粉末；或者直接使用单质金属粉末进行混合；最终，以热压或者热等静压方式将该筛分后的金属粉末压制成形，制成铝钛、铝铬系列溅镀靶材毛坯。成形温度一般为500~ 650℃，时间为80 ~ 100min，压力为20 ~50MPa;通入氩气作为保护气体。

铝靶材应用

可以沉积廉价的铝膜。当在真空中蒸发时，铝层会形成望远镜、汽车前照灯、镜子、包装和玩具上的反射涂层。

它还广泛用于航空航天、汽车照明、OLED 和光学行业。